რადიაციული დეფექტების ჩასახვისა და მოწვის პროცესების თავისებურებანი მონოკრისტალურ n-Si+4ატ.%Ge:P შენადნობში

ავტორები

შესწავლილია 60Co გამა-ფოტონებით დასხივების გავლენა მაღალი კონცენტრაციით გერმანიუმის შემცველ მონოკრისტალურ n-Si+4ატ.%Ge:P შენადნობში რადიაციული დეფექტების ჩასახვისა და იზოქრონულად მოწვების პროცესებზე. საცდელი მოცულობითი კრისტალები მიღებულია ჩოხრალსკის მეთოდით არგონის ატმოსფეროში. ელექტროფიზიკური მახასიათებლები განსაზღვრული იქნა მუდმივ მაგნიტურ ველში ჰოლის კოეფიციენტის გაზომვებით 20-400°C ტემპერატურულ ინტერვალში 20-წუთიანი იზოქრონული მოწვების სხვადასხვა ეტაპზე. დადგენილია, რომ საცდელი SiGe შენადნობის კრისტალურ მესერში გერმანიუმის ატომებთან ლოკალიზებული შემკუმშავი ძაბვების გავლენით ადგილი აქვს რადიაციული A-ცენტრების (VO) მოწვის ტემპერატურის შემცირებას. გამოვლენილია რადიაციული E-ცენტრების (PV) დისოციაციის ტემპერატურის ცვლილება, განპირობებული მათი მიმართული მიგრაციით დისლოკაციებთან ლოკალიზებული ძაბვების ველში.

ამ ავტორ(ებ)ის ყველაზე წაკითხვადი სტატიები

მსგავსი სტატიები

1 2 3 > >> 

თქვენ ასევე შეგიძლიათ მსგავსი სტატიების გაფართოებული ძიების დაწყება ამ სტატიისათვის.